硅及硅合金检测
硅及硅合金检测：材料产品检测项目与标准依据说明，常见项目1项，包括氧、氮等。
检测项目
氧、氮、碳、硅、硫、硼、钠、镁、铝、磷、钙、钪、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、硒、锶、锆、钼、银、镉、铟、锡、锑、钡、铪、铊、铅、铋
检测范围
检测范围覆盖材料领域常见产品类型；样品数量、状态与预处理要求按所引标准执行。
检测方法
原子吸收光谱法（AAS）：测定样品中铅、镉、汞、砷等重金属元素含量
电感耦合等离子体发射光谱法（ICP-OES）：多元素同时测定，适用于基体复杂样品
原子荧光光谱法（AFS）：用于砷、汞、硒等易氢化元素的高灵敏测定
电感耦合等离子体发射光谱法（ICP-OES）：同时测定多种金属元素含量
滴定分析法：用于钙、镁等常量元素的容量法测定
检测仪器
- 原子吸收光谱仪
- 电感耦合等离子体发射光谱仪
- 原子荧光光谱仪
- 微波消解仪
- 分析天平
- 自动电位滴定仪
检测标准
常用标准与依据如下，所引标准如遇更新、替代或废止，以现行有效版本为准：
QB-H1-14.2-1994 工业硅化学分析方法 原子吸收法测定工业硅中的铁、锰、镍、铅、钙
QB-QT-17-2014 金属硅 高频燃烧红外法
YB/T 178.2-2012《硅铝合金和硅钡铝合金 钡含量的测定 硫酸钡重量法》
YB/T 5317-2016《硅钙合金 硫含量的测定 高频燃烧红外线吸收法和燃烧碘酸钾滴定法》
SG-GC-07.1-2009 硅中杂质元素测定电感耦合等离子体质谱法
GB/T 14849.4-2014《工业硅化学分析方法 第4部分：杂质元素含量测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法》
GB/T 14849.2-2007《工业硅化学分析方法 第2部分：铝量的测定 铬天青-S分光光度法》
YB/T 178.5-2012《硅铝合金和硅钡铝合金 磷含量的测定 钼蓝分光光度法》
YB/T 109.5-2012《硅钡合金 磷含量的测定 钼蓝分光光度法》
YB/T 178.4-2012《硅铝合金和硅钡铝合金 锰含量的测定 高碘酸盐氧化分光光度法》
QB-H1-16.3.2-1994 硅铝钡铁合金
ASTM C1494-13（Reapproved 2018) 氮化硅粉末 碳、氮、氧含量的测定
QB-H1-14.3-1994 工业硅化学分析方法 钼蓝分光光度法测定工业硅中的磷
YB/T 178.6-2008《硅铝合金、硅钡铝合金碳含量的测定 红外线吸收法》
YB/T 178.7-2008《硅铝合金、硅钡铝合金硫含量的测定 红外线吸收法》
YB/T 109.3-2012《硅钡合金 铝含量的测定 EDTA滴定法》
SG-GC-07.2-2009 硅中杂质元素测定电感耦合等离子体发射光谱法
YB/T 178.1-2012《硅铝合金和硅钡铝合金 硅含量的测定 高氯酸脱水重量法》
检测说明
本页内容依据公开发布标准与公开资料整理，所引标准以现行有效版本为准。
